一、超聲波清洗機工藝流程
研磨后的清洗：
研磨是光學玻璃生產中決定其加工效率和表面質量（外觀和精度）的重要過程。研磨過程中的主要污染物是研磨粉和瀝青，少數(shù)企業(yè)在加工過程中會有漆片。其中，研磨粉的型號不同，一般為堿金屬氧化物，主要是二氧化鈦。根據(jù)鏡片的材料和研磨精度，選擇不同型號的研磨粉。研磨過程中使用的瀝青起到保護作用，防止拋光鏡被劃傷或腐蝕。研磨后的清洗設備大致分為兩種：
一種主要使用有機溶劑清洗劑，另一種主要使用半水基清洗劑。
有機溶劑清洗的清洗工藝如下:
有機溶劑清洗劑(超聲波)-水基清洗劑(超聲波)-市水漂洗-純水漂洗-IPA(異丙醇)脫水-IPA慢拉干燥。
有機溶劑清洗劑的主要用途是清洗瀝青和漆片。過去，三氯乙烷或三氯乙烯主要用于溶劑清洗劑。由于三氯乙烷是ODS（臭氧層消耗物質）產品，目前正處于強制淘汰階段；長期使用三氯乙烯容易導致職業(yè)病，由于三氯乙烯不穩(wěn)定，容易水解酸性，會腐蝕鏡片和設備。為此，國內清潔劑制造商開發(fā)生產了一系列非ODS溶劑清潔劑，可用于清潔光學玻璃；該系列產品具有不同的物理化學指標，可有效滿足不同設備和工藝條件的要求。例如，在少數(shù)企業(yè)的生產過程中，鏡片表面有一層難以處理的漆片，需要特殊溶解的有機溶劑；部分企業(yè)清洗設備溶劑清洗槽冷凝管少，自由程短，需要揮發(fā)慢的有機溶劑；另一些企業(yè)需要快速揮發(fā)。
水基清洗劑的主要用途是清洗研磨粉。由于研磨粉是堿金屬氧化物，溶劑的清洗能力很弱，鏡片加工過程中產生的研磨粉基本上在水基清洗單元中去除，對水基清洗劑的要求很高。過去，由于國內光學玻璃專用水基清洗劑品種較少，許多外國企業(yè)選擇進口清洗劑。目前，國內公司已開發(fā)出光學玻璃清洗劑，并已成功應用于國內多家大型光學玻璃制造商。清洗效果可以完全取代進口產品，優(yōu)于腐蝕性（防腐性能）等指標的進口產品。
對于IPA慢拉干燥，需要注意的是，一些類型的鏡后容易產生水印，這種現(xiàn)象一方面與IPA的純度和空氣濕度有關，另一方面與清潔設備有很大的關系，特別是手臂干燥效果明顯不如單臂干燥好，需要設備制造商和用戶注意這一點。
二、半水基清洗采用的清洗工藝如下
半水基清洗劑(超聲波)-市水沖洗-市水沖洗-純水沖洗-IPA脫水-IPA慢拉干燥。
與溶劑清洗相比，這種清洗工藝最大的區(qū)別在于前兩個清洗單元：有機溶劑清洗僅對瀝青或漆片有良好的清洗效果，但不能清洗研磨粉等無機物質；半水基清洗劑不同，不僅能清洗瀝青等有機污染物，而且對研磨粉等無機物質有良好的清洗效果，大大降低了后續(xù)清洗單元中水基清洗劑的清洗壓力。半水基清洗劑的特點是揮發(fā)速度慢，氣味小。第一個清洗單元中使用半水基清洗劑的設備不需要密封、冷凝、蒸餾和回收裝置。但由于半水基清洗劑粘度大，對后續(xù)工藝中使用的水基清洗劑有乳化作用，第二個單元必須用城市水沖洗，最好設置為水沖洗。
國內應用這一工藝的企業(yè)并不多，其中一個原因是半水基清洗劑多為進口，價格比較貴。
從水基清洗單元開始，半水基清洗工藝與溶劑清洗工藝基本相同。這里不再重復了。
三、有機溶劑清洗與半水基清洗
溶劑清洗是一種更傳統(tǒng)的方法，其優(yōu)點是清洗速度快，效率高，溶劑本身可不斷蒸餾回收，但缺點明顯，由于光學玻璃生產環(huán)境需要恒溫恒濕，是封閉車間，溶劑氣味會對工作環(huán)境產生一定的影響，特別是使用不封閉的半自動清洗設備。
半水基清洗是近年來逐步發(fā)展和成熟的一種新工藝，在傳統(tǒng)溶劑清洗的基礎上得到了改進。有效避免溶劑的一些弱點，無毒，氣味輕微，廢液可排入污水處理系統(tǒng)，設備配套設備少，使用周期比溶劑長，運行成本低于溶劑。半水基清洗劑最突出的優(yōu)點之一是對研磨粉等無機污染物具有良好的清洗效果，大大降低了后續(xù)單元水基清洗劑的清洗壓力，延長了水基清洗劑的使用壽命，減少了水基清洗劑的用量，降低了運行成本。
它的缺點是清洗速度比溶劑慢，必須沖洗。
涂層前清洗：
涂層前清洗的主要污染物是核心油（也稱為磨邊油，核心也稱為核心。核心，是指為了獲得規(guī)定的半徑和核心精度而選擇的過程）。指紋?；覊m等。由于涂層過程對鏡片清潔度的要求非常嚴格，因此清潔劑的選擇非常重要。在考慮某種清潔劑的清潔能力的同時，也要考慮其腐蝕性等問題。
涂層前的清洗一般與研磨后的清洗方法相同，分為溶劑清洗和半水基清洗。工藝流程和化學品類型如上所述。
涂層后清洗：
一般包括油漆前的清潔。組裝前的清潔和組裝前的清潔，包括組裝前的清潔（組合是指用光敏膠將兩個鏡頭粘在規(guī)定的形狀上，以滿足無法一次加工成型的需要，或創(chuàng)造更特殊的曲率。透光率的過程）是最嚴格的要求。接頭前清洗的污染物主要是灰塵。手印等混合物，清洗不難，但對鏡片表面清潔度要求很高，其清洗方法與前兩種清洗工藝相同。
